Seltenerd-Ceroxid-Polierpulver 0,7–1,1 µm für Wafer
BESCHREIBUNG:
Seltenerd-Ceroxid-Polierpulver (0,7–1,1 µm) ist ein hochreines, submikronäres Schleifmittel auf Basis von Ceroxid (CeO₂, auch Ceroxid genannt). Es zeichnet sich durch einen einzigartigen chemischen und mechanischen Poliermechanismus aus. Ceroxid-Waferpolierpulver findet breite Anwendung beim Präzisionspolieren von Halbleiterwafern, optischen Komponenten und elektronischen Substraten. Es eignet sich zur Herstellung von Waferpoliersuspensionen.
Eigenschaften von Seltenerd-Ceroxid-Polierpulver 0,7-1,1 µm für Wafer:
| CAS-Nr. | 1306-38-3/1312-81-8 |
| Formel | Ceroxid (CeO2)/Lanthanoxid (La2O3) |
| Aussehen | Weißes Farbpulver |
| WIR NICHT. | 215-150-4/215-200-5 |
| Wahre Dichte | 6,5–7 g/cm³ |
| Schmelzpunkt | 2400 Grad Celsius |
| Siedepunkt | 3500 Grad Celsius |
TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]:
| Artikel | Garantiewert | Typischer Wert | |
| SPRACHE | ≥94 | 94,42 | |
| Seltene Erden Verunreinigungen/REO | La2O3 | 32-36 | 34,94 |
| CeO2 | 64-68 | 64,57 | |
| Pr6O11 | ≤0,2 | 0,007 | |
| Nd2O3 | ≤0,2 | 0,002 | |
| Nicht-Seltenerd-Verunreinigungen | Fe2O3 | ≤0,04 | 0,033 |
| Al2O3 | ≤0,5 | 0,289 | |
| Hoch | ≤1,5 | 0,04 | |
| MgO | ≤0,5 | 0,104 | |
| SiO2 | ≤0,1 | 0,019 | |
ANWENDUNGEN:
Es wird zum hochpräzisen Schleifen und Polieren von optischem Glas, Substratglas für integrierte Schaltungen, Substratglas für die Galvanisierung, hochpräzisen optischen Linsen, Kameralinsen, gehärtetem Flugzeugglas, verschiedenen Displaygläsern und anderen Produkten in über 10 Spezifikationen und Modellen eingesetzt. Es kann auch verwendet werden für
Verwendung findet dies beim Wasserbohren, Heißbohren, in der Glasherstellung usw.
Paket:
